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这日本教授，简直欺人太甚！”
肖宿放下正在整理的书包，走到周宇轩身后。
陈林和林思源也凑了过来。
电脑屏幕上正在播放一段会议录像，看样子是某个国际学术会议的现场直播录播。
画面中，一个戴著金丝眼镜、头髮梳得一丝不苟的亚洲面孔的中年男子站在讲台上，身后的大屏幕上显示著复杂的数学公式和光刻机结构图。
男子正用英语进行演讲，语速平稳，偶尔配合手势强调重点。
“这是世界计算光刻大会的直播回放。”
周宇轩咬牙切齿地解释道
世界计算光刻大会（wclc），光刻计算领域的『世界锦標赛，是光刻技术领域最具影响力的国际会议，相当於这个行业的“奥运会”
。
每年，全球顶尖的光刻专家、数学家、物理学家和工程师都会齐聚一堂，展示最新研究成果，探討技术前沿。
能在wclc上做主旨演讲的，无一不是领域內的泰斗级人物。
而光刻技术本身，则是晶片製造中最核心、最精密的环节。
简单说，就是用光把电路图案“刻”
到硅片上。
图案越精细，晶片性能越强。
目前最先进的euv（极紫外）光刻技术，已经能够实现5纳米甚至更小尺寸的晶片製造，而这背后需要极其复杂的数学建模和计算光学支持。
对於正在全力突破晶片“卡脖子”
技术的华国来说，光刻领域的每一个进步都牵动著无数人的心。
华国科研团队每年都会派出顶尖学者参加wclc，学习交流最新成果，同时也展示自己的研究进展。
周宇轩对电子產品特別关注，对这种世界前沿的会议更是不可能落下。
“这个日本人叫佐藤健一郎。”
周宇轩指著屏幕上的演讲者，声音里满是厌恶。
“他是京都大学数学研究所教授，日本学术振兴会特別研究员。
还是国际光学工程学会最高荣誉获得者，长期研究光刻数学理论，在国际上有一定的话语权。”
屏幕上，佐藤健一郎的演讲已接近尾声。
他推了推眼镜，切换到最后一张幻灯片，上面展示著一套结构优美、符號繁复的数学框架。
“这就是他这次提出的『佐藤正则化框架。”
周宇轩低声说，他显然对这个领域已经做过研究了。
“一套专门针对euv光刻误差修正的数学公式体系。
他声称用这个框架，能够完美解决euv光刻中的各种像差和失真问题，让5纳米晶片的良率突破95%。”
良率也就是纳米晶片生產的成功率。
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